| | | | |
| | | | | |
 Институт Электрофизики / ЦКП   Карта сайта     Language По-русски По-английски

О ЦКП

Аналитическое оборудование

Измерительное оборудование

Технологическое оборудование

Оборудование для пробоподготовки

Документы ЦКП

Технологическое оборудование

Низкоэнергетичный источник широкого пучка ионов газов с плазменным катодом

 

Производитель: ИЭФ УрО РАН, Россия

Ионное распыление материалов и нанесение покрытий с ионно-лучевым сопровождением.

Основные характеристики:

  • энергия ионов 0.5–5 кэВ;
  • ток пучка 200 мА;
  • сечение пучка 100 см2.




 Распределение плотности тока по сечению пучка

Дизайн и программирование N-Studio
© 2003-2018 Институт Электрофизики
беременность, мода, красота, здоровье, диеты, женский журнал, здоровье детей, здоровье ребенка, красота и здоровье, жизнь и здоровье, секреты красоты, воспитание ребенка православное искусство, христианские стихи, книги скачать, православные знакомства, плохие мысли, психологи рождение ребенка,пол ребенка,воспитание ребенка,ребенок дошкольного возраста, дети дошкольного возраста,грудной ребенок,обучение ребенка,родить ребенка,загадки для детей,здоровье ребенка,зачатие ребенка,второй ребенок,определение пола ребенка,будущий ребенок медицина, клиники и больницы, болезни, врач, лечение, доктор, наркология, спид, вич, алкоголизм рождение ребенка,пол ребенка,воспитание ребенка,ребенок дошкольного возраста, дети дошкольного возраста,грудной ребенок,обучение ребенка,родить ребенка,загадки для детей,здоровье ребенка,зачатие ребенка,второй ребенок,определение пола ребенка,будущий ребенок