Методом анодного испарения алюминия в дуговом разряде низкого давления в кислородно-аргоновой среде и осаждения на изоструктурный подслой в условиях интенсивного ионного сопровождения получено нанокристаллическое покрытие из оксида алюминия со структурой корунда и определен диапазон изменения параметров ионного потока на поверхность растущего покрытия, в котором обеспечивается формирование плотного твердого (25 ГПа) покрытия с низким уровнем внутренних напряжений со скоростью до 4 мкм/ч при температуре 600оС.
