|
|---|
Источник ионного пучка с поперечным сечением 600×100 мм2 (40 кВ, 0,2 А).
1. Источники ионов газов с холодным катодом, способные генерировать ионные пучки с большим поперечным сечением площадью в десятки – сотни кв. см. любой формы (круг, прямоугольник, лента). Энергия ионов 1-50 кэВ, плотность тока пучка 0,1-10 мА/см2. Тип ионов — любые газовые, включая ионы кислорода. Режим генерации пучка как непрерывный, так и импульсно-периодический (0,01-1 мс, 1-1000 Гц). Комплект поставки включает плазменный источник и источники электрического питания.
|
|---|
Опытная партия технологических ионных источников (80 см2, 40 кВ, 50 мА).
|
2. Ионный имплантер для облучения образцов и изделий с размерами до 50 мм пучками ионов газов (энергия ионов 40 кэВ, флюенс – до 1019 см-2) и ионов металлов (энергия ионов 30 кэВ, флюенс – до 5 1017 см-2).
|
|
|---|
Ионный имплантер для облучения образцов и изделий с размерами до 50 мм пучками ионов газов.
|
|
3. Установка для нанесения многоэлементных покрытий магнетронным распылением (до 4-х одновременно распыляемых мишеней, в том числе диэлектрических), включая реактивное осаждение оксидных и нитридных покрытий в условиях регулируемого интенсивного ионного сопровождения, реализуемого изменением тока низкоэнергетичного электронного пучка.
|
|
|---|
Установка для нанесения многоэлементных покрытий магнетронным распылением.
|
|
